多温区烘胶台产品介绍

高效光刻烘胶利器——WH-HP-02/03多温区烘胶台

在微纳加工与光刻工艺中，烘胶（前烘、中烘、后烘）的温度一致性及效率直接影响图形质量和重复性。传统单温区烘胶台在面对多温度点需求时，不得不频繁升降温，耗时且易引入误差。汉颐股份推出的WH-HP-02（7寸） 与WH-HP-03（5寸） 多温区烘胶台，以创新三温区独立控制设计，重新定义了实验室烘胶体验。

三大核心优势

1. 三温区独立可控，效率倍增
设备设有三个独立温控区域，可分别设定不同温度，同时或单独运行。例如，可同时进行前烘（90℃）、中烘（110℃）和后烘（120℃）工艺，无需等待升降温切换，单批次处理时间缩短50%以上，且每个区域温度互不干扰，保证工艺一致性。

2. PID精准温控，重复性优异
采用PID闭环控温系统，控温精度达±1℃，温度均匀性＜±5%。升温速度快，长时间持续工作稳定性高。触摸屏界面支持分段式程控升温曲线设定，轻松实现复杂烘焙程序。

3. 适配主流旋涂仪，一站式薄膜制备
WH-HP系列热板与KW-4A、WH-SC-01旋涂机完美兼容，是制备金属氧化物薄膜、聚合物涂层、金属有机薄膜的理想组合。与传统烘箱相比，热板从下向上均匀加热，避免“表皮效应”，烘烤时间缩短数倍，膜层更致密均匀。

技术规格速览

两款设备均采用AC220V供电，触屏操作，内置PID算法，可持续稳定工作。紧凑设计节省实验室空间，是科研院所、半导体工厂、高校光刻实验室的得力助手。

典型应用场景

• 光刻胶前烘、后烘、硬烘烤

• 溶胶-凝胶薄膜热处理

• 聚合物涂层固化

• 有机金属薄膜退火

点击下载完整说明书，开启高效、精准的多温区烘胶新体验。

注：产品数据来源于汉颐股份公开资料，选型及使用请结合实际工艺要求。