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AZ 50XT 光刻胶
- 型号AZ 50XT
 
AZ 50XT 正性光刻胶,性能稳定,是应用于电镀工艺的超厚光刻胶。
 


AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。
光刻胶产品型号及参数
| 光刻胶名称 | 型号 | 匀胶厚度 | 
| Merck AZ 正/负可转换型光刻胶 | AZ 5214 | 0.5-6um | 
| AZ 50XT 正胶 | AZ 50XT | 40-80um | 
| AZ 9260 正胶 | AZ 9260 | 6.2-15um | 
| AZ 4620 光刻胶 | AZ 4620 | 10-15um | 
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2015 | 13-38um | 
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2050 | 40-170um | 
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 2075 | 60-240um | 
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 3010 | 8-15um | 
| MicroChem SU-8 负胶 | SU-8 3050 | 44-100um | 
AZ光刻胶工艺条件其他参数及说明:



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