- 光刻工艺介绍及对掩膜版的质量要求光刻工艺的基本要求包括图形完整、尺寸准确、套准对准且套准精度高、表面干净，并具有一定的工艺宽容度。光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技...2024-09-09 10:06:02
- 微流控芯片一般光刻工艺过程把设计掩膜模图形转移到晶圆上需要经过一整套复杂的涂胶、曝光、显影、刻蚀等工艺过程，这一过程大体可以分为以下11个步骤，如下图1 所示： 图1 一般光刻...2024-07-04 09:13:40
- 光刻工艺介绍达30个掩模。通常根据生产非常细的管线的能力来预测工艺性能。但是，评估光刻工艺的性能非常困难。制造商要求严格控制数千个硅芯片和硅芯片中超过10亿个晶...2023-12-21 10:56:32
- 光刻机是光刻工艺的核心设备循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。 光刻工艺定义了半导体器件的尺寸，是IC制造中的关键环节。作为芯片生产流程中最复...2022-11-22 08:50:23
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺光刻工艺 光刻工艺是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ，工艺如下 ： ①仔细地将基片洗净; ②在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ，例如铬、二氧化硅、氮化...2022-09-22 08:49:07
- 光刻工艺的评价标准是由工艺集成（process integrated，PI）部门负责的。光刻工艺的输出就是光刻胶上的图形。一般集成部门对光刻胶上的图形有严格要求。如图...2018-07-31 18:10:09
- 光刻工艺的成本一个在研的新光刻工艺最终是否被生产线采纳用于量产，不仅取决于其技术指标是否达到要求，更重要的是它能否为芯片生产带来足够的经济效益。芯片造价的30%~40%是花费...2018-07-25 08:40:00
- 现代光刻工艺研发各部分的职责和协作使用的支持。这种技术支持超过了传统的使用培训、故障维修、而是深入参与到光刻工艺研发中，为工艺中的难点提供解决方案。 光刻材料也已经不再局限于光...2018-07-12 09:55:41
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍基底相比，金属衬底上的SU-8工艺更有利于微细电铸工艺。胶膜结构质量受光刻工艺，如基底前处理、匀胶、前后烘、曝光、显影等环节影响，其中显影操作是光刻...2018-03-09 08:47:59
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片：去离子水和有机溶液冲洗，边旋转边冲洗，以去除污...2017-12-21 08:48:35
