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• 光掩膜基版在光刻中的作用蚀刻、脱膜等，其中光刻是核心环节。在光刻过程中，掩膜版上的设计图案通过光刻机曝光到光刻胶上，然后通过后续的蚀刻步骤来实现图形的转移。技术挑战： 随着技...2024-10-09 09:10:06
• 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines间，从而提高光刻机的产能。（d）掩模狭缝投影成像原理图1 步进-扫描式光刻机曝光方式示意图曝光扫描结束后，曝光系统步进式移动到下一个位置。图1（c）是...2017-12-29 09:04:54
• 光刻机三种曝光方式优缺点对比接触式曝光接触式曝光是将掩膜与待加工基片的光胶层直接接触进行的曝光。掩膜和基片通过机械装置压紧或通过真空吸住等方法实现两者紧密接触。优点：设备简单、造...2017-10-25 09:49:06