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  • SU-8光刻胶模具使用的模板一定是环氧树脂SU-8模具。汶颢股份利用光刻技术在涂覆SU-8光刻胶的硅片上制备深宽比高的微结构与微零件,可制作厚度在10-500μ,具有一...2022-12-09 09:44:17
  • 到货通知:SU-8光刻胶2000系列、3000系列到货啦SU-8光刻胶常用2000系列、3000系列到货啦,美国原装进口,无需预定!无需等待!           新型的化学增幅型负像 SU-8 胶是一种负性、环氧...2022-03-03 16:09:43
  • Microchem SU-8光刻胶 2000系列SU 8光刻胶系列产品简介新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,十...2020-08-22 10:29:38
  • SU-8光刻胶2000系列,是国内第一款自主研发的厚胶       光刻胶1959年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶改进运用到印制电路板的制造工艺,成为 PCB 生产的重要材料。二十世纪九十年代...2016-09-23 16:05:41
  • 什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影正胶显影:正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形。 负胶显影:在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影...2022-10-18 08:22:43
  • 光刻胶的特性及工艺流程(1)灵敏度光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值。光刻胶的敏感性对于深紫外光、极深紫外光等尤为重要。单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的最小光能...2022-09-23 08:42:39
  • 光刻胶的主要成分和技术参数光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。一般情况下,光刻胶是带有芳香味的具有一定黏度及颜色的液体。光刻胶以液态涂覆在硅片表面上...2022-09-19 08:34:41
  • 光刻胶SU-8涂胶工艺解析涂胶和显影是光刻前后的重要步骤,设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。光刻涂胶工艺无论在晶圆制造前道工艺还是封装测试后道工艺,都需要涂胶显影设备。半导体设备按半导体加工过程主要分为前道...2022-09-16 08:26:41
  • 光刻胶的主要技术参数 Critical Dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。  b、对比度(Contrast)。指光刻胶从曝光区到非曝...2022-06-30 16:46:37
  • 光刻胶性能要求性能 主要应用于刚性或柔性物体表面的微纹(纳米结构)复制,因此要求所用的光刻胶的厚度通常为几十至几百纳米,只有高质量的光刻胶薄膜才能获得理想的图形。在...2022-02-26 23:21:06
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