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- 光刻机是光刻工艺的核心设备个硅片制造工艺的1/3。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。 光刻机是光刻...2022-11-22 08:50:23
- 低成本微流控芯片加工方法MS的微模塑成型成为目前最为常见的微流控芯片加工方法。其中，使用SU-8光刻胶作为模具对PDMS进行模塑成型较为常见，将SU-8光刻胶旋涂在硅片上并进...2022-11-02 09:44:35
- 涂胶显影设备的前景机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝...2022-10-17 08:27:13
- 等离子清洗机在PDMS微流控芯片键合中的作用，在微流控芯片的应用中，等离子清洗机设备既可以用于晶圆或碎片的表面处理及光刻胶去除，也可以用于PDMS等键合前的材料表面处理或改性。 ...2022-10-14 08:13:26
- WH-DJ-01 点胶机01点胶机是针对微流控芯片实验室中光刻工艺的点胶过程开发的，对光刻工艺中光刻胶（高、低粘度）及增粘剂的定量点胶功能，具有压力调节、点胶时间设定、点胶量...2022-10-10 10:00:23
- 快速了解匀胶机旋涂仪的工作原理型的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层，干燥这一步除去胶...2022-09-29 09:13:48
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺光刻工艺 光刻工艺是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ，工艺如下 ： ①仔细地将基片洗净; ②在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ，例如铬、二氧化硅、氮化硅等; ③再用甩胶机在...2022-09-22 08:49:07
- 显影工艺及显影喷嘴的应用 如图2和图3所示，显影工艺在光刻工艺过程中的中后期工序，以去除光刻胶形成工艺需求的图形为目的，使掩膜版的图形能够精确的投射到晶圆的光刻胶上。...2022-08-12 16:28:13
- 微流控芯片模板是如何加工的第一步需要使用阴性光刻胶（SU-8 2025）加工模具以得到所需微流控芯片模板的微结构，具体操过程如下： （1）前期准备：首先仔细清洗 4 个规格为 125 mm 的玻...2022-07-22 14:28:36
