- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤应的图形。晶片表面必须有如照相底片般的物质存在，属于可感光的胶质化合物（光刻胶），经与光线作用和化学作用方式处理后，即可将掩膜版上的图形一五一十地转移...2017-12-21 08:48:35
- 高精度匀胶机运行过程与注意事项）已在许多领域取得广泛应用。集成电路：在半导体，集成电路的光刻工艺中，将光刻胶涂覆在硅片，聚二甲基硅氧烷 （PDMS）等表面。金属表面处理:在防腐蚀工...2017-12-20 09:35:21
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧下所示： 1、准备晶片/圆片 2、 旋涂负性SU-8光刻胶 3、 软烤（光刻胶的第一次烘烤） 4、 边缘光刻胶...2017-12-15 10:09:37
- 匀胶机旋涂仪工作原理以及匀胶工艺常见问题型的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层，干燥这一步除去胶...2017-12-04 13:32:44
- 热压法快速制作微流控芯片模具模具的工艺技术成为关键。目前应用 于 PDMS 芯片制作的模具材料主要有光刻胶、 硅、不锈钢、金属 Ni及 PDMS等。这些材料所制作的模具或容易损坏...2017-12-01 10:05:25
- 不同材质芯片微结构的制备方法流控芯片批量加工干膜光刻加工工艺：使用干膜法进行芯片模具加工，以替代以往光刻胶旋涂工艺，在不改变加工精度和质量的前提下，大大提高了批量化生产的效率；干...2017-10-27 10:18:53
- 光刻基本操作步骤前烘、曝光、显影、显影后检查匀胶：目的：在硅片表面均匀涂上一层厚度一定的光刻胶准备工作：①、泡胶嘴、擦胶嘴、走陪片②、检查胶瓶内光刻胶（胶液面距瓶底5...2017-10-25 09:31:42
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机达到多少纳米了？2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来...2017-10-25 09:28:40
- 微流控分析芯片的加工技术（lithography)和刻蚀技术（etching)①光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在...2017-10-12 09:24:20
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件片基材系列：硅片、玻璃片、PMMA板、PC板、COC板。 2、微流控芯片光刻胶系列：SU-8系列光刻胶、AZ系列光刻胶、苏州瑞红系列光刻胶。3、微流控...2017-10-10 08:48:08
