- 光刻胶SU-8涂胶工艺解析涂胶和显影是光刻前后的重要步骤，设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。光刻涂胶工艺无论在晶圆制造前道工艺还是封装测试后道工艺，都需要涂胶显影设备。半导体设备按半导体加工过程主要分为前道...2022-09-16 08:26:41
- 光刻胶的主要技术参数 Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 b、对比度（Contrast）。指光刻胶从曝光区到非曝...2022-06-30 16:46:37
- 光刻胶性能要求性能 主要应用于刚性或柔性物体表面的微纹(纳米结构)复制，因此要求所用的光刻胶的厚度通常为几十至几百纳米，只有高质量的光刻胶薄膜才能获得理想的图形。在...2022-02-26 23:21:06
- 介绍正/负光刻胶的显影机理及区别将光刻胶分为两类，一类是负性光刻胶，一类是正性光刻胶。在显影后，正性光刻胶未曝光的部分将被保留下来，而负性光刻胶则在显影后保留下来。也就是说，在曝光结束...2021-12-30 16:49:32
- 光刻技术种类及光刻胶的分类热压印技术及热压印光刻胶热压印顾名思义在整个过程具有加热的处理，于是要求用于压印的基材、模板等具有高的耐热性能，同时使用的光刻胶也需要具有所需要的热性能。热压印过程中使...2021-12-30 15:50:44
- SU-8光刻胶去胶液SU-8去胶液2020-07-07 11:18:26
- 光刻胶材料大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印...2018-06-05 08:50:37
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍Tips:汶颢提供不同型号正/负性光刻胶和相关加工设备。SU-8光刻胶以其优异的机械性能、良好的热稳定性和耐腐蚀性，具有自整平、对近紫外光敏感且吸收极小等优点，在MEMS (micro...2018-03-09 08:47:59
- 微流控SU-8光刻胶的紫外曝光SU-8光刻胶UV曝光的目的是通过部分SU-8光刻胶的PAC（PhotoActiv Component）激活/活化来引发交联。这种活化将会改变SU-8的局部性...2017-12-21 08:58:06
- 使用匀胶机旋涂微流控SU-8光刻胶微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...2017-12-18 08:59:39
