- 光刻胶及光刻工艺流程光刻胶（Photoresist简称PR）又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液的溶解度会发生变化。①光刻胶作用：将掩...2017-08-23 10:15:02
- 正负性光刻胶分类光刻胶主要由树脂（Resin）、感光剂（Sensitizer）、溶剂（Solvent）及添加 剂（Additive）等不同的材料按一定比例配制而成。其...2017-08-22 13:05:14
- 光刻胶基础知识光刻胶也称光致抗蚀剂（Photoresist,P.R.）。1.光刻胶类型凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性...2017-08-21 10:09:09
- 新型多触发极紫外光刻胶材料EUV）光刻一直被认为是下一个可行的光刻方案。然而，在光学系统、掩膜版、光刻胶材料等方面的技术难题阻碍了这一技术的应用。例如，EUV光掩膜系统已经由原...2017-08-17 11:54:14
- 光刻胶（Photo Resist）知识大全光刻胶的定义及主要作用光刻胶是一种有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。 光...2017-08-10 14:58:20
- 新途径！无需光刻胶，多种纳米材料通过光刻形成图案术相当复杂，在这里我为大家粗略地介绍一下基本原理：它利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模版上的图案刻制到被加工表面...2017-08-03 16:41:44
- 中国光刻胶行业分布分析一、光刻胶生产企业分布分析国内紫外固化材料发展有约20多年，目前仍处于成长期；普通UV涂料、UV油墨国内已经能生产并部分出口，且行业集中度较高，但高端产品...2017-08-02 10:06:15
- 生产光刻胶及使用光刻胶需注意的事项光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质、树脂和一些其他利于使用的材...2016-12-09 09:51:02
- 光刻胶发展历程光刻胶又称为光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。其两大作用为：1、将掩膜版上的图形转移到晶圆表面顶...2016-12-07 14:25:53
- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状光刻胶与光刻技术 光刻技术也是利用光的能量，通过控制光照的区域使具有化学活性的液体化学物质快速发生光化学反应，并通过实现选择性的腐蚀得到图形的技术。为...2016-11-29 16:48:28
