- 工艺参数选择对石英玻璃刻蚀性能的研究镀膜机对样品表面镀Al膜层，在SC-1B型匀胶机上对样片涂覆AR3740光刻胶。在microlab-lite 光刻仪上进行光刻，曝光时间为30 ms，...2023-12-26 10:28:25
- 匀胶显影设备工艺原理、结构及常见故障分析粒污染并且涂底均匀。 图1：HMDS单元供液系统匀胶：在晶圆表面覆盖一层光刻胶。覆盖的方式主要为喷胶式和旋涂式。喷胶设备将光刻胶通过胶嘴以“胶雾”的形...2023-12-22 09:53:09
- 光刻工艺介绍以分为两个阶段。第一阶段为通过曝光机将所需图形转移到硅片或者掩模版的表层光刻胶上；第二阶段为显影阶段，通过显影液与光刻胶的化学反应使第一阶段所产生的图...2023-12-21 10:56:32
- 匀胶机旋涂仪旋涂的四个关键阶段要对涂层进行热处理或“烧制”（如“旋涂玻璃”或溶胶凝胶涂层）。另一方面，光刻胶通常会经历其他工艺，具体取决于所需的应用/用途。显然，第 3 阶段和第 ...2023-08-22 09:16:47
- 浓度梯度微流控芯片平台的构建及其应用于抗白念珠菌药物快速筛选研究8%), 氟康唑(≥98%)、两性霉素B (80%)。SU-8 3025光刻胶, 硅单面抛光片和显影液, SYLGARD®184 PDMS预聚体和固化...2023-08-10 08:45:08
- 细说接触式光刻机的使用原理及性能指标指标。接触式光刻机的使用原理：其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。我...2023-08-04 08:55:03
- 如何加工一个微流控芯片的环氧树脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧加工的顺序如下所示： 1、准备晶片/圆片 2、 旋涂负性SU-8光刻胶 3、 软烤（光刻胶的第一次烘烤） 4、 边缘光刻胶的去除（可选...2023-07-28 08:53:56
- 微流控芯片的制作工艺及注意事项设备则包括光刻机、薄膜沉积设备等。接下来，通过光刻技术将芯片的图案转移到光刻胶上。该步骤需要使用掩膜板，将设计好的芯片结构投影到光刻胶表面，并进行曝光...2023-07-20 09:59:05
- 数字微流控芯片的基本组成有SiO2、Si3N4、Al2O3、聚二甲基硅氧烷（PDMS）和SU-8光刻胶、聚对二甲苯（parylene）材料等。其中SiO2具有很好的电绝缘性、...2023-07-07 09:33:36
- SU-8显影液< 0.5%显影原理：SU-8胶的显影原理是在显影液中溶解掉未曝光部分的光刻胶。当基片放人显影液中，未曝光部分的光刻胶会被显影液溶解。而曝光过的光刻胶...2023-06-29 11:57:03
