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  • 微流控PDMS芯片加工工艺作。整理加工台面。 注:所需仪器:电热板、匀胶机、烘胶台;耗材:光刻胶、显影液、硅片等。注:上文中提及的相关仪器:真空脱泡搅拌机、恒温干燥箱、显微镜...2016-04-26 16:45:13
  • 光刻机的简单介绍光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光...2016-04-18 11:54:16
  • 光刻技术到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应;再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光...2016-04-05 11:54:05
  • 基因芯片的测序原理面上的核酸探针或cDNA片段,通常用同位素标记的靶基因与其杂交,通过放射显影技术进行检测。这种方法的优点是所需检测设备与目前分子生物学所用的放射显影...2015-04-08 16:47:42
  • 光刻机的分类光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序Photolithography(光刻) 意思是用光...2015-02-13 15:17:06
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