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- 光刻加工光刻技术图形转移工艺光刻工艺（Photoetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将光刻掩...2025-04-04 21:48:35
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- 正性光刻对掩膜版有哪些要求正性光刻对掩膜版的要求主要包括以下几个方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、稳定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因为它具有较低的...2025-02-17 09:46:14
- 晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺的研究随着半导体器件的应用范围越来越广，晶圆制造技术也得到了快速发展。其中，光刻技术在晶圆制造过程中的地位尤为重要。光刻胶是光刻工艺中必不可少的材料，其质量直接影响到晶圆生产的效率和质量。本文将围绕着晶圆表面光刻胶的涂覆与刮...2025-01-03 09:43:30
- 正性光刻对掩膜版的要求在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求：图案准确性...2024-12-20 09:48:27
- 微流控硅片在显影后上有大量的光刻胶残留是什么原因呢？微流控显影后硅片上有大量的光刻胶残留可能是由于多种因素造成的。以下是可能导致这种情况的一些原因和解决方法：可能的原因显影液不足：显影液的量不足可能导致显影不完全，从而留下光刻...2024-10-31 08:52:04
- 光刻掩膜和光刻模具的关系光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的图...2024-10-14 09:14:32
- 铬版掩膜与光刻掩膜的区别，用于精确地转移图形到待加工的材料上，如集成电路（IC）芯片。铬版掩膜和光刻掩膜都是掩膜版的一种，但它们之间存在一些区别，主要体现在材料、用途和工艺...2024-10-12 09:25:11
