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- 光刻加工光刻技术图形转移工艺光刻工艺（Photoetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将光刻掩...2024-11-22 20:20:10
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- 光刻掩膜和光刻模具的关系光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的图...2024-10-14 09:14:32
- 铬版掩膜与光刻掩膜的区别，用于精确地转移图形到待加工的材料上，如集成电路（IC）芯片。铬版掩膜和光刻掩膜都是掩膜版的一种，但它们之间存在一些区别，主要体现在材料、用途和工艺...2024-10-12 09:25:11
- 菲林掩膜和光刻掩膜的区别菲林掩膜和光刻掩膜都是在微电子制造过程中用于图案转移的技术，但它们之间存在一些显著的区别。基本概念菲林掩膜，也称为光绘菲林或菲林光掩膜，通常是由透光合成树脂（...2024-10-11 10:18:29
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- su8 光刻胶使用方法及注意事项使用方法基底准备在使用SU-8光刻胶之前，基板应保持清洁和干燥.清洁基板的方法包括使用硫酸和过氧化氢的混合液（piranha etch）进行湿法清洗，随后用去离子水冲洗.可选地，...2024-09-27 09:37:13
- 光刻掩膜版制作流程光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程：1. 设计与准备在开始制作光刻掩膜版之前，首先需要根...2024-09-14 08:44:25
