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- SU-8光刻胶模具会用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的过程中。PDMS芯片加工通常采用软光刻技术来制作。为了执行PDMS软光刻技术的加工过程，通常需要用到模板，最常...2026-07-09 23:52:02
- 光刻加工光刻技术图形转移工艺光刻工艺（Photoetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将光刻掩...2026-07-09 23:52:02
- Microchem SU-8光刻胶 2000系列SU 8光刻胶系列产品简介新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，...2024-03-28 10:07:48
- 正性光刻对掩膜版的要求在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求：图案准确性...2025-12-18 14:49:53
- AZ 5214E 光刻胶详解：Lift-off 工艺专用正负反转光刻胶选型指南，lift-off 剥离工艺是金属薄膜图形化最常用的手段，而适配该工艺的光刻胶直接决定成品良率。AZ 5214E 作为行业经典正负可反转型光刻胶，凭...2026-07-06 14:43:08
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- 微流控芯片量产全链路拆解：从 SU-8 光刻母模到封装成品，一文看懂规模化制备工艺落地批量生产。今天结合苏州汶颢标准化量产产线实拍样品，完整拆解SU-8 光刻母模制备→复制成型基板→键合封装成品全流程，兼顾实验室研发与工业化批量制...2026-06-29 11:08:57
- 一文看懂 PDMS 微流控芯片标准软光刻制备全流程（苏州汶颢工艺详解）细胞分析领域应用最广泛的基材。行业内主流成熟制备方案为SU-8 硅阳模软光刻工艺，苏州汶颢深耕微流控加工十余年，配套完整光刻、PDMS 成型、等离子...2026-06-26 10:49:35
- 紫外单面光刻机选型指南：核心技术指标与市场对比分析一、引言紫外光刻机（Mask Aligner）是微纳加工领域的核心设备，广泛应用于半导体制造、MEMS（微机电系统）、微流控芯片、光电器件、生物芯片等领域的研发...2026-06-24 09:36:28