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- su8 光刻胶使用方法及注意事项使用方法基底准备在使用SU-8光刻胶之前，基板应保持清洁和干燥.清洁基板的方法包括使用硫酸和过氧化氢的混合液（piranha etch）进行湿法清洗，随后用去离子水冲洗.可选地，也...2024-09-27 09:37:13
- 掩膜版与光刻胶的功能和作用掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。掩膜版，也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微电子...2024-09-06 09:57:07
- 如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用烘胶台或者烤胶机对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤：软烘、后...2024-08-27 09:13:59
- 如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...2024-08-26 09:48:48
- 如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光？为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率，光掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置，不要有任何干扰。如要这样做，可检查如下几件事。首先，光掩模和晶圆之间的灰尘或任何其他元素的存在都会导致不完美的接触。在曝光的过程中，通过清...2024-08-23 08:57:36
- 光刻胶再吸水某些光刻胶的光化学作用要求在曝光过程中光刻胶膜中需要有水作为不可缺少的前驱体，但在前烘后立即进行曝光则不能有足够的时间吸收水分。本文主要介绍其原理、补水的...2024-07-29 10:02:11
- 半导体核心材料：光刻胶一、光刻胶定义与分类光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶...2024-07-15 09:02:27
