- 光刻胶再吸水某些光刻胶的光化学作用要求在曝光过程中光刻胶膜中需要有水作为不可缺少的前驱体，但在前烘后立即进行曝光则不能有足够的时间吸收水分。本文主要介绍其原理、补水的方法和水分不足的可能的后果。光刻...2024-07-29 10:02:11
- 光刻胶的图形反转曝光剂量强烈影响着获得的光刻胶轮廓形态:低曝光剂量与光的穿透深度相比，光刻胶膜厚度越大，曝光剂量在深度方向的分布更为明显。在低光剂量的情况下，衬底附...2024-07-09 09:32:09
- 光刻胶的保存和老化失效2保护，如果条件不允许，其失效速度与容器的形状等有关，不能一概而论。带光刻胶膜样品的存放涂胶的晶圆保存，在晶圆上并经过前烘的光刻胶膜可以在曝光前保存...2024-07-08 10:08:57
- 光刻胶去胶工艺光刻胶结构。碱性溶液通常不能完全去除光刻胶残留物，但是在这种情况下会在光刻胶膜产生下蠕变。然后或多或少地将残留物带离衬底上，然后将其完全清除。但是，...2024-07-05 09:43:47
- 光刻胶后烘技术烘是指（post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影，也就是说还未闭合，PEB也可以在高于...2024-07-03 09:15:13
- 光刻胶显影率增加。由于在较低的温度下，已显影的光刻胶形成的复合物更稳定，因此其在光刻胶膜中的重新组装受到抑制，所以在低温下的速率最初惊人地增加。显影液在多次显...2024-07-02 09:36:33
- 光刻胶的硬烘烤技术虽然在显影后不在需要光引发剂进行光反应，但在未曝光状态下，它有助于提高光刻胶膜的碱性稳定性，以及用于随后的湿法蚀刻步骤或在pH值为>7的溶液中进行的...2024-07-01 11:48:28
- 涂胶时发现衬底（or部分）涂不上胶怎么回事？用移液管或移液器取光刻胶时不正确的操作方式也会造成了气泡以及由此导致的光刻胶膜的不均匀性（如果将移液管拉得太快，负压会太大，引入气泡）。如果在涂布前...2024-06-27 08:48:12
- 光刻胶的浸涂工艺在浸涂过程中，基材通常垂直地从一个充满光刻胶的液池中提出来。富含溶剂的光刻胶膜从饱和溶剂的气氛中形成。光刻胶液池正上方的饱和溶剂气氛中(图1所示)，...2024-06-26 09:18:28
- 光刻胶烘烤过程及对显影的影响艺过程中(如金属化或干法蚀刻) 热效应下溶剂的挥发导致产生气泡，并提高光刻胶膜的软化温度为后续工艺过程(如金属化或干法蚀刻)提供保障；在电镀过程中增...2024-06-21 09:52:46
