- 光刻机是光刻工艺的核心设备赖进口，且国产化进程整体较慢。 随着中国大陆代工厂的不断扩建，未来对于国产光刻机的需求不断提升，而当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距，国产光刻...2022-11-22 08:50:23
- 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，如1（a）所...2017-12-29 09:04:54
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机第二束光，系统光路设计上改动比较小，光刻机工程化应用相对容易，有希望使国产光刻机在高端领域弯道超车、有所突破。...2017-10-25 09:28:40
- URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍URE-2000/25 型深度光刻机， 是在 URE-2000A 和 URE-2000B 基础上开发 成功的，其主要特点是： 灯源采用 200W 交流...2017-10-24 11:32:15
- 面对垄断，自主研发高端光刻机实现国产化替代势在必行更多汶颢微流控技术公司实验室仪器设备（www.whchip.com）的国产光刻机及进口光刻胶等产品耗材。 ...2017-08-10 14:36:55
- 28nm节点浸没式光刻机核心部件之一浸液系统入驻杭州青山湖科技城什么是光刻机？高端光刻机是集成电路配备中技能难度最高的关键设备，因此也被称为人类技能开展的制高点和制作工业“皇冠上的明珠”。国外品牌主要以荷兰ASML...2017-08-08 16:38:10
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机工工艺中，光刻机所采用的波段是决定光刻分辨力的重要因素之一。长期以来，国产光刻机均采用紫外波段（350nm至450nm），分辨力只能做到1μm以上。而...2017-07-28 16:03:16
- 光刻机的曝光模式积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光...2016-12-08 14:34:46
- 光刻机的简单介绍等。对准系统制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望其项背的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设...2016-04-18 11:54:16
- 光刻机的“曝光模式”分类积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，目前国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式...2015-02-13 15:49:15
