- 掩膜板的制造和管理掩膜板的基材一般为熔融石英（quartz），这种材料对深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光学透射，而且具有非常低的温度...2024-08-01 10:02:30
- 微流控芯片3大制作技术，然后进行后续的微电铸和微复制工艺。它不需要同步辐射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于实现微机械器件的大批量生产。根据紫外光深层光刻的工艺路线的不同，...2024-08-29 09:41:06
- 半导体掩膜版制造工艺及流程作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。掩膜板可分为光掩膜版和投影掩膜版。光掩膜版包含了整个硅片的芯片图形特征，进行1...2024-08-19 09:52:00
- 光刻胶的硬烘烤技术高于其曝光后烘的温度的情况下。如果负胶显影后的结构在后烘前受到泛曝光（无掩膜板曝光)，交联程度的增加。因此，可以提高侧壁的湿化学稳定性特别是厚胶应用中...2024-07-01 11:48:28
- 匀胶“边胶”的产生及改善措施触式光刻的情况下是有问题的：由于边缘光刻胶的溶剂残留量高，即使在前烘后，掩膜板也会粘附在光刻胶膜上，会污染掩膜板。在曝光过程中，边珠还会在光刻胶膜和掩...2024-02-22 09:54:25
- 从层析荧光到微流控生物芯片——现场快速检验（POCT）没有产品出现。 理邦的m16磁敏免疫分析仪采用了通过多层纳米膜淀积、多层掩膜板光刻等大规模集成电路工艺制造的生物芯片技术。图2是其示意图，其中每一个彩...2023-08-15 08:47:55
- 微流控芯片的制作工艺及注意事项积设备等。接下来，通过光刻技术将芯片的图案转移到光刻胶上。该步骤需要使用掩膜板，将设计好的芯片结构投影到光刻胶表面，并进行曝光和显影处理。然后，使用薄...2023-07-20 09:59:05
- 微流控芯片的制作技术，然后进行后续的微电铸和微复制工艺。它不需要同步辐射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于实现微机械器件的大批量生产。根据紫外光深层光刻的工艺路线的不同，...2021-10-14 15:29:00
- PDMS微流控芯片的微通道传统加工方法有高分辨率、高纵横比、良好的模具耐久性的SU-8光刻胶，经曝光后烘焙，将掩膜板与基板对准后覆盖在光刻胶层上，曝光后再经过一次PEB，最后通过超声显影后...2021-07-29 16:47:47
- 芯片光刻的流程详解（下）图形的转移。曝光方法：a、接触式曝光（Contact Printing）掩膜板直接与光刻胶层接触。b、接近式曝光（Proximity Printing...2018-07-12 08:59:24
