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- 传统光学的曝光技术有哪些ting)和投影式曝光(projectionprinting)。阴影式曝光技术中,掩膜直 接与晶片接触实现曝光的,叫接触式曝光;掩膜与晶片保持一间隙...2015-01-30 16:31:49
- 光刻胶成分及用途raphy)灰度曝光可以产生曲面的光刻胶剖面,是制作三维浮雕结构的光学曝光技术之一。灰度曝光的关键在于灰度掩膜板的制作、灰度光刻胶工艺与光刻胶浮雕图...2017-10-31 17:26:19
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺, 需要对基板进行研磨抛光。(2)SU-8 胶膜的制备。本文采 用掩膜曝光技术制作矩形胶膜型腔 作为填充的空间,胶膜采用 SU-8 胶 制作,曝光工...2017-10-10 08:38:48
- 光刻技术的基本原理100nm线条以下半导体器件制造的主要工具。3.2电子束光刻 电子束曝光技术是迄今为止分辨率最高的一种曝光手段。电子束光刻的优点是(1)分辨率高;...2016-10-10 10:13:26