- 紫外光源：曝光系统最核心3 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。
曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明...2015-01-30 16:11:16
- 光刻胶的一般特性介绍resolution）是一个综合指标。影响分辨能力的因素有3个方面：①曝光系统的分辨率；②光刻胶的相对分子质量、分子平均分布、对比度与胶厚；③显影条...2024-07-10 09:14:55
- 微流控芯片一般光刻工艺过程来进行再吸水，从而达到更优的性能。4. 曝光曝光的完成是通过曝光掩模和曝光系统，如步进式（i-线的，g-线）掩模对准式或接触式曝光系统在各自的光谱工...2024-07-04 09:13:40
- 微流控芯片制造工艺（下）1)优化镜片(改变sinθ)在曝光波长缩短的同时，镜头设计的改进也导致曝光系统镜头的数值孔径(NA)得到改善，见图 。在八十年代中期，NA 值约为 ...2024-06-25 08:47:32
- 微流控芯片制造工艺（上）3 掩膜集成电路制造所用的掩膜通常是缩小倍数的掩膜。制作掩膜是用电子束曝光系统将图形直接转移到对电子束敏感的掩膜上。掩模由镀铬玻璃板组成。电路图形首...2024-06-24 09:25:22
- 光刻机是光刻工艺的核心设备 光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版...2022-11-22 08:50:23
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备影响光刻的质量。因此要有高的成品率，就必须制作出高质的光刻掩膜版。3.曝光系统曝光机 将光刻掩膜版与涂上光刻胶的晶圆片对准，用一定波长的紫外光经过光...2018-06-07 08:41:19
- 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines般采用步进-扫描式曝光。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。载有掩模...2017-12-29 09:04:54
- 光刻胶成分及用途胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：(1) 曝光系统的分辨率。(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得...2017-10-31 17:26:19
- TSP Sheet Exposure System触摸屏用Sheet曝光机是触摸屏及LCD制造技术所需要的大面积曝光系统，是可实现微细线宽和高生产率的产品。Sheet曝光机产品的优秀性不仅能让客户的Needs得到满足，而且在开发下一代触摸屏方面，也发挥主导作用...2017-10-30 17:25:31
