- 紫外光源：曝光系统最核心
常见光源分为:
紫外光（UV），g线：436nm;i线：365nm
深紫外光（DUV）...2015-01-30 16:11:16
- 光刻胶的保存和老化失效曝光前保存数周而不会降低曝光的质量。但是需要注意保存条件，避免紫外（含紫外光源）的曝光，避免颗粒等污染物吸附在衬底上，部分特殊光刻胶需要注意空气气氛...2024-07-08 10:08:57
- 光刻胶的硬烘烤技术外壳”，在一定程度上保护了光刻胶结构不受加热的影响。如果没有可用的深度紫外光源，标准掩模对准式光刻机也可用g-线、h-线和i-线进行辐照。当然，这种...2024-07-01 11:48:28
- 微流控芯片制备加工方法墨技术可直接将墨滴喷射到电路板上，从而精确绘制电路图。③紫外光刻技术：紫外光源因为其具有较短的波长、高的光子能量、加工分辨率高等优势，在高精度加工领...2024-03-05 10:20:27
- 一文了解SU-8光刻胶得树脂变得易于溶解。化学放大光刻胶曝光速递是DQN光刻胶的10倍，对深紫外光源具有良好的光学敏感性，同时具有高对比度，对高分辨率等优点。 （化学放大...2023-07-25 08:58:21
- 量子点材料的研究现状及在光致发光和电致发光领域的应用了81；Lin等在柔性衬底上混合不同颜色cdse／Zns的量子点并使用紫外光源作为激发光，最高达到了96的显色指数。 此外，在量子点中引入有光...2019-10-31 14:17:55
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机所微电子专用设备研发团队积极响应客户需求，大胆创新，成功解决了低成本深紫外光源、深紫外高均匀性匀光技术、新型深紫外介质膜镀膜技术以及非球面准直技术等...2017-07-28 16:03:16
- PDMS芯片表面改性技术向表面扩散，导致表面接枝层密度减小。另外，物理改性需要等离子体发生器、紫外光源等设备，有些还比较昂贵。特别要指出的是：通过等离子体和紫外光处理后，两...2017-01-13 10:03:08
- 光刻机的简单介绍量的需要，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。紫外光源曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:紫外光（UV），g线...2016-04-18 11:54:16
