微流控芯片制备之微结构的形成|光刻法|模塑法|热压法|激光刻蚀法

 1．经典的光刻技术

适合硅、玻璃、石英等材料，与传统的半导体工业的方法一致。

分为湿法和干法两种，干法的分辨率较湿法高，相应的制造成本也高。

Photolithograph procedures for making glass template. (a) Spine coating of photoresist, (b) covered with photo mask, (c) exposure, (d) developing, (e) etching, and (f) removal of photoresist.

2．模版浇注法（模塑法）

适合聚合物材料。

 大批量生产时成本低

Process overview for mass manufacturing of plastic microfluidic systems

3．模版热压法

适合热塑性聚合物

Schematic representation of the fabrication method involving hotembossing of thermoplastic polymer pellets and thermal bonding.

4．激光刻蚀法

用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构