微流控芯片制作与加工

微流控的研究始于80年代初并用于喷墨打印机喷头，DNA芯片，实验室芯片技术，微推动及温度脉冲技术。微流控芯片，又称其为微流控芯片实验室或芯片实验室，它是微流控技术实现的主要平台，可在类似一枚邮票或一张信用卡大小的芯片上完成生物或化学实验室各种功能的技术。

微流控芯片的制作

1、加工技术起源于微电子工业微机电加工技术，即集成电路芯片制作的光刻和蚀刻技术，微管道宽度和深度为微米级，比集成电路芯片的大，但加工精度要求则相对较低。

2、基片材料应具有良好的电绝缘性、散热性、光学性能可以修饰性，可产生电渗流，能固载生物大分子，对检测信号干扰小或无干扰；与芯片实验室的工作介质之间要有良好的化学和生物相容性，不发生反应。基片材料从硅片发展到玻璃，石英，有机聚合物等。

3、微米尺寸结构，要求在制备过程中必须对环境进行严格认真的控制，包括空气湿度，空气温度，空气及制备过程中所使用的各种介质中的颗粒密度，要求在洁净室内完成。

微流控芯片的基本加工

1、光刻和蚀刻技术，用光胶。掩膜、和紫外光进行微制造，由薄膜沉积，光刻和蚀刻三个工序组成。

2、光刻前首先要在基片表面覆盖一层薄膜。然后在薄膜表面用甩胶机均匀地覆盖上一沉光胶，将掩膜上微流控芯片设计图案通过曝光成像的原理转移到光胶层的工艺过程称为光刻。

      3、光刻的质量则取决于光抗蚀剂（有正负之分）和光刻掩膜版的质量。掩膜的基本功能是基片受到光束照射（如紫外线）时，在图形区和非图形区产生不同的光吸收和透过能力。

    微流控芯片是当前微全分析系统发展的热点领域。其产生的应用目的是实现微全分析系统的终极目标——芯片实验室，目前重点应用领域是生命科学领域。