光刻机的主要性能指标有哪些 2015-01-30 16:37:55 苏州汶颢微流控技术股份有限公司 已读 光刻机的主要性能指标有： 支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。 光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。 曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。 附：光刻机——http://www.whchip.com/product/product.php?search=search&lang=cn&class1=149&searchtype=0&content=%E5%85%89%E5%88%BB%E6%9C%BA 标签: 光刻机 性能指标 实验仪器 上一条小型喷雾干燥机在生产中可能出现的故障和解决方法 下一条传统光学的曝光技术有哪些
