微流控芯片加工需要哪些设备?

微流控芯片最初起源于分析化学领域, 是一种采用精细加工技术, 在数平方厘米的基片上制作出微腔体和微管道网络结构及其它功能单元, 以实现集微量样品制备、进样、反应、分离及检测于一体的快速、高效、低耗的微型分析实验装置. 随着微电子及微机械制作技术的不断进步, 近年来微流控芯片技术发展迅猛, 并开始在化学、生命科学及医学器件等领域发挥重要作用。那么，加工微流控芯片需要哪些设备呢？

一、光刻机

主要制作硅片材质的微流控芯片。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程微通道结构临时“复制”到硅片上的过程。

二、注塑设备

PDMS芯片以其透气、质地柔软、管道光滑和加工周期短等特性，成为诸多生化检测领域产业化芯片的最佳材质。可利用硅片模具、玻璃模具、金属模具或塑料模具进行PDMS芯片的注塑成型加工。

三、数控CNC设备

能够加工高精度的聚合物材质芯片产品（PMMA，PC，ABS，TEFLON等工程塑料）和金属材质（铝、镍和不锈钢等），通道宽度最小极限为150μm，深度极限视加工特征定性，最大加工范围为400*400*260cm，配合高精度检测设备，控制产品尺寸精准，表面粗糙度微小，能够满足要求较高的实验需求。

四、烘胶设备

主要用于光刻工艺中的前烘和坚膜。

五、匀胶设备

主要用于光刻匀胶工序，在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上。