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  • SU-8光刻胶去胶液SU-8去胶液2020-07-07 11:18:26
  • 光刻胶成分及用途特殊工艺用胶。④.配套试剂(Process chemicals)显影液、去胶液、稀释剂、增附剂(粘附剂)、定影液等。4.光刻胶成分光刻胶一般由4部分组...2017-10-31 17:26:19
  • 基于电化学刻蚀与微电铸工艺.1g/L)。(2)去胶。将制作完成的试验片使用SU-8 Remover去胶液去胶。(3)剪切力测量。采用剪切法 测量各试验片铸层与基底的剪切力, 计...2017-10-10 08:38:48
  • 微纳加工- 玻璃芯片工使用到的试剂与耗材有:铬版玻璃、掩膜、正性光刻胶、显影液、玻璃刻蚀液、去胶液。3.汶颢股份提供微流控玻璃芯片加工、设计及定制服务项目标配(其他尺寸可...2017-10-09 16:38:00
  • 光刻胶及光刻工艺流程图形套刻准确汶颢股份提供AZ系列光刻胶和SU-8系列光刻胶及相关显影液、去胶液等相关产品。欢迎来电咨询光刻胶价格。...2017-08-23 10:15:02
  • 正负性光刻胶分类限公司提供AZ 光刻胶(正胶)系列和SU-8光刻胶(负胶)系列,另外相关去胶液、显影液有售。原装进口,品质保证!0512-62525802 来电咨询光...2017-08-22 13:05:14
  • 光刻胶基础知识的组成部分。汶颢微流控技术公司提供AZ 光刻胶和SU 8光刻胶以及光刻胶去胶液和显影液等芯片实验室周边耗材及配件。欢迎来电咨询光刻胶价格。...2017-08-21 10:09:09
  • 新型多触发极紫外光刻胶材料em SU8光刻胶、AZ 光刻胶、显影液、正性光刻胶、负性光刻胶及光刻胶去胶液等相关耗材。欢迎来电咨询光刻胶价格。咨询电话:181-3677-3235...2017-08-17 11:54:14
  • 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备也就是将微结构临时“复制”到硅片上的过程。显影液:将曝光后的图形显示出来去胶液:去除表面多余的光刻胶真空干燥箱:PDMS倒入制作好的模具后放入真空干燥...2016-12-05 14:58:36
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