- 使用匀胶机旋涂微流控SU-8光刻胶微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...2017-12-18 08:59:39
- 微流控SU-8光刻胶烘烤注意事项在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用热板对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤：软烘、后...2017-12-18 08:52:46
- 光刻胶：国产化势不可挡光刻胶是在微电子制造业中实现精细线路及图形加工工艺的核心材料。光刻技术利用光刻胶在辐射前后溶解度的差异来转移图案，不同光刻胶及曝光光源的组合会得到不同...2017-11-22 11:17:40
- 光刻胶成分及用途1.光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又...2017-10-31 17:26:19
- 基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术。通过使用传统的光刻方法，以SU-8光刻胶作为模具，可以制作基于PDMS材质的微流控芯片。特点是加工精度高，通道深宽比大，...2017-10-16 13:30:50
- 光刻胶和光刻的基本流程移和实现电路图形（EDA设计）—（投影和离子束曝光）—掩膜版—（光刻）—光刻胶—（刻蚀/注入）—芯片2、光刻的基本原理光刻是通过光化合反应，将掩膜版上...2017-10-10 08:50:00
- 正负光刻胶的缺点对比一般来说线宽的用正性光刻胶,线窄的用负性光刻胶! 相对而言，正性光刻胶比负性光刻胶的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μ...2017-10-09 17:41:05
- SU-8光刻胶光刻工艺SU-8光刻胶工艺路线及工艺流程1) 对衬底进行清洗，并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8光刻胶3...2017-10-09 17:36:09
- 光刻胶模具加工工艺1.光刻胶模具加工工艺流程将设计好的芯片结构转移到掩版上经过负性光刻胶光刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有：匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、...2017-10-09 17:14:32
- SU-8 光刻胶及光刻工艺SU- 8光刻胶是一种环氧型的、近紫外光负光刻胶, 它基于环氧 SU- 8 树脂( 来源于橡胶工业)。 由于平均一个分子中含有 8 个环氧基, 所以名称 中包含...2017-08-31 11:32:06
