- 微流控分析芯片滴微流控芯片以及其他功能单元3.微流控芯片加工光刻工艺：硅片表面SU-8光刻胶加工能力、玻璃湿法腐蚀加工能力、硅片干法刻蚀加工能力等。注塑成型工艺：开...2018-11-16 15:58:38
- 汶颢股份产品目录(2018年) 1.3.1 光刻工艺 1.3.1.1 硅片表面SU-8光刻胶加工能力 1.3.1.2 玻璃湿法腐蚀加工能力 ...2018-01-03 10:39:46
- 基于微流控技术实现严格厌氧条件下的细菌单细胞培养与实时观测（上）强度等离子处理 30 min。 b. 从冰箱中取出 SU-8 2002 光刻胶和 SU-8 2000.5 光刻胶，待光刻胶温度与室温一致时，按V(SU...2024-04-22 10:01:06
- 微流控芯片制备加工方法构。紫外光刻技术方式可以分为紫外掩模加工和紫外直写加工。紫外掩模加工需要光刻胶掩模板，紫外激光光源为面光源，而紫外直写加工则不需要光刻胶掩模板。 ④电...2024-03-05 10:20:27
- 掩膜版清洗方法和注意事项品时，掩膜版通常会变脏。由于光刻过程中我们常用的接触是光刻机需要掩膜版与光刻胶上表面紧密接触以提高光刻精度，因此随着时间的推移，光刻胶的小碎片不可避免...2024-02-28 09:39:58
- 匀胶过程中气泡的产生及消除措施在使用光刻胶时，我们往往会遇到气泡的问题，而且气泡的存在往往会直接影响光刻质量，因此我们需要搞清楚气泡产生的原因和怎样消除气泡带来的不良影响。光刻胶的气泡产...2024-02-27 09:12:44
- 匀胶“边胶”的产生及改善措施“边胶”的形成原因和带来的不利影响光刻胶旋涂是特别是厚胶的旋涂和方形衬底匀胶时，会在衬底的边缘形成胶厚的光刻胶边即是所谓的边胶，即光刻胶的边缘突起，在使用接触式光刻的情况下是有问题的：...2024-02-22 09:54:25
- 晶圆显影方式之浸泡式显影和喷淋式显影otoresist developing），显影是将显影液应用于曝光后的光刻胶。显影液是一种化学溶剂，作用是洗去光刻胶中被曝光或未被曝光的部分，从而在...2024-02-19 10:42:43
- 微流控纸芯片在环境分析检测中的应用芯片 。依据构建亲疏水通道方法的不同可分为如下几类：通过疏水材料如石蜡、光刻胶、聚氨酯丙烯酸酯等在纸上构成疏水通道；使用聚合物如聚二甲硅氧烷（PDMS...2024-01-12 08:59:39
- 基于流动聚焦微流控芯片的液晶微滴制备及传感响应分析鼓风干燥箱；等离子清洗仪；真空干燥箱；水浴锅；电子天平；偏光显微镜。负性光刻胶 SU-8 3050； 聚二甲基硅氧烷及固化剂( PDMS, Sylga...2023-12-29 11:00:24
