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- 光刻机是光刻工艺的核心设备 光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光...2022-11-22 08:50:23
- 光刻机——现代光学工业之花光刻机——现代光学工业之花光刻机，被称为现代光学工业之花，制造难度非常大，全世界只有少数几家公司能够制造。其售价高达7000万美金。用于生产芯片的光刻...2022-11-17 09:58:03
- 光刻机光刻机2020-08-19 09:16:46
- 一文看懂光刻机较大的情况。9）去胶刻蚀完成后，通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶。光刻机： 半导体制造业皇冠上的明珠光刻机根据应用工序不同，可以分为用于生产芯片...2018-05-16 08:59:54
- URE-2000/A8紫外单面光刻机1、设备主要技术指标：(1) 曝光面积： 200mm×200mm； （2）分辨力：?3mm；（3）对准精度：±2mm；（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、...2018-05-02 13:42:31
- URE-2000/30型光刻机9个透镜）、i线滤光片、场镜、冷光反射镜1、反射镜2（2）对准工件台l 光刻机底座l 工位切换台（气缸）l 掩模样片整体运动台l 掩模样片相对运动台l...2018-05-02 13:33:01
- URE-2000/17型光刻机（台式）URE-2000/17型紫外深度光刻机技术特点： 采用双目双视场显微镜对准；球碗调平,单片机控制,触摸开关,操作方便、实用性强。 1．技术参数l 曝光面积：4英寸l ...2018-05-02 13:27:42
- Nikon光刻机对准机制和标记系统研究步进式重复曝光光刻机出现于上世纪80年代早期，从那时起直至90年代后期出现第一台准分子激光光刻机商品为止，各种各样的G线、I线光刻机统治了集成电路制造中的光刻工艺。...2018-01-31 09:33:17
- 投影式光刻机 Projection Photoetching Machines投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。载...2017-12-29 09:04:54
