- PDMS湿法刻蚀与软刻蚀的区别体材料，广泛应用于微流控芯片、生物传感器和柔性电子等领域。在这些应用中，刻蚀工艺是实现微结构加工的关键步骤。湿法刻蚀和软刻蚀是两种常用的刻蚀方法，它...2024-09-20 09:42:54
- PDMS软刻蚀技术的应用PDMS（聚二甲基硅氧烷）软刻蚀技术是一种在高分子科学中广泛应用的微制造技术。它能够简捷有效、高精度地制备出众多材料的微结构，且技术成本低廉，不需要昂贵的设备和苛刻的环境，具有...2024-09-19 09:34:25
- 微流控芯片加工中的PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍同类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和聚合物成型...2024-08-28 09:11:56
- 湿法刻蚀工艺干法刻蚀（Dry Etching）是使用气体刻蚀介质。 常用的干法刻蚀方法包括物理刻蚀（如离子束刻蚀）和化学气相刻蚀（如等离子体刻蚀）等。与干法蚀刻相比...2024-07-31 09:09:43
- 半导体光刻刻蚀过程和工艺高于前烘温度100-130℃，时间2分钟。蒸发光刻胶中所有有机溶剂、提高刻蚀和注入的抵抗力、提高光刻胶和表面的粘附性、聚合和使得光刻胶更加稳定、光刻...2024-06-19 09:51:25
- 工艺参数选择对石英玻璃刻蚀性能的研究EMS制备中占据了重要的作用。Nakanishi等采用46%的氢氟酸作为刻蚀剂制备出玻璃材质的电泳芯片。玻璃材料由于其自身特性，它没有电荷的自由移动...2023-12-26 10:28:25
- 光刻技术图形转移工艺三：芯片刻蚀光刻和刻蚀是两个不同的加工工艺，但因为这两个工艺只有连续进行，才能完成真正意义上的图形转移，而且在工艺线上，这两个工艺经常是放在同一工序，因此，有时也将这...2018-06-07 08:49:02
- 微流控芯片加工：PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍同类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和聚合物成型...2017-12-28 09:32:10
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺微电铸工艺中铸层与基底结合力差的问题，在光刻工艺的基础上，采用掩膜电化学刻蚀和微电铸相结合的方法，制作出了结合力较好的镍基双十字微流控芯片模具。针对...2017-10-10 08:38:48
- 刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法刻蚀刻蚀工艺刻蚀，是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的基本目的，是在涂胶(或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。 ...2017-08-23 16:26:42
