- PDMS软刻蚀技术的应用PDMS（聚二甲基硅氧烷）软刻蚀技术是一种在高分子科学中广泛应用的微制造技术。它能够简捷有效、高精度地制备出众多材料的微结构，且技术成本低廉，不需要昂贵的设备和苛刻的环境，具有...2024-09-19 09:34:25
- 微流控芯片加工中的PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和聚合物成型技...2024-08-28 09:11:56
- 微流控芯片加工：PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和聚合物成型技...2017-12-28 09:32:10
- 光刻工艺与刻蚀技术的研究光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅...2016-10-24 09:17:41
- 芯片刻蚀技术中的干法刻蚀技术刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本知道工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。对于芯片刻蚀来说，刻蚀被分为湿法刻蚀和干法刻蚀两...2016-10-17 09:14:25
- 玻璃芯片的刻蚀技术
在基片背面以及边缘贴上胶带纸作为保护层。若观察到除通道外有漏光点（铬层被磨损），也可用胶带纸保护。
将刻蚀液...2015-01-30 15:04:05
- 光刻加工胶，后者称负性光刻胶），使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上，最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上或利用套刻技术形成PDMS芯片。 光刻掩...2024-11-23 07:34:52
- 微流控芯片中玻璃和PDMS进行等离子键合需要留意的注意事项越长，您的PDMS表面越粗糙而且还会影响到粘接性能。等离子体通常用于软刻蚀技术，最强牢固粘接的最佳时间通常是在20到60秒之间。 等离子体处理后的时...2024-08-22 10:43:15
- 微流控光刻掩膜版制作，从而形成所需的微流控结构。这一过程中，可能需要使用到湿法或干法刻蚀技术，具体方法取决于材料的性质和所需的精度。最后，完成刻蚀后，可能...2024-08-08 14:09:34
- 半导体核心材料：光刻胶胶是产业链中技术难度最高，增速最快的环节，在集成电路制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，占芯片制造时间的 40-50%，占制...2024-07-15 09:02:27
