- SU-8光刻胶去胶液SU-8去胶液2020-07-07 11:18:26
- 光刻胶去胶工艺不是很容易实现的步骤。这里我们称用于去除光刻胶的溶剂或者溶液为去胶剂或者去胶液、除胶剂，lift-off工艺中我们也称之为剥离液。光刻胶薄膜的溶解度非...2024-07-05 09:43:47
- 微流控芯片一般光刻工艺过程光刻胶有腐蚀作用的溶液将光刻胶溶解或者腐蚀掉，从而达到去胶的目的，这里，去胶液的选择需要遵循与衬底反应或者不损伤衬底为前提条件。干法去胶是利用氧等离子...2024-07-04 09:13:40
- 光刻胶的硬烘烤技术工艺结束后去除。在正胶的情况下，在坚膜温度达到150–160℃时，常见的去胶液或有机溶剂的去胶能力大大降低，交联的负阻已经在130–140℃时去胶液效...2024-07-01 11:48:28
- 光刻胶成分及用途特殊工艺用胶。④．配套试剂（Process chemicals）显影液、去胶液、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。4.光刻胶成分光刻胶一般由4部分组...2017-10-31 17:26:19
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺.1g/L）。（2）去胶。将制作完成的试验片使用SU-8 Remover去胶液去胶。（3）剪切力测量。采用剪切法 测量各试验片铸层与基底的剪切力， 计...2017-10-10 08:38:48
- 微纳加工- 玻璃芯片工使用到的试剂与耗材有：铬版玻璃、掩膜、正性光刻胶、显影液、玻璃刻蚀液、去胶液。3.汶颢股份提供微流控玻璃芯片加工、设计及定制服务项目标配（其他尺寸可...2017-10-09 16:38:00
- 光刻胶及光刻工艺流程图形套刻准确汶颢股份提供AZ系列光刻胶和SU-8系列光刻胶及相关显影液、去胶液等相关产品。欢迎来电咨询光刻胶价格。...2017-08-23 10:15:02
- 正负性光刻胶分类限公司提供AZ 光刻胶（正胶）系列和SU-8光刻胶（负胶）系列，另外相关去胶液、显影液有售。原装进口，品质保证！0512-62525802 来电咨询光...2017-08-22 13:05:14
- 光刻胶基础知识的组成部分。汶颢微流控技术公司提供AZ 光刻胶和SU 8光刻胶以及光刻胶去胶液和显影液等芯片实验室周边耗材及配件。欢迎来电咨询光刻胶价格。...2017-08-21 10:09:09
