- 微流控光刻掩膜版的介绍及作用，其中需对掩膜版关键尺寸（CD，CriticalDimension）、套刻精度（Overlay）等关键参数进行测量，同时需使用自动光学检测设备（AO...2024-08-15 10:13:13
- 光刻工艺介绍装备，评价光刻机性能主要有三个指标。即分辨率（resolution）、套刻精度(overlay)和产率（throughput）。分辨率一般有两种表示...2023-12-21 10:56:32
- 对准工作原理，这样才能保证每一层图形有正确的相对位置，这称为套刻曝光（简称套刻）。套刻精度是投影光刻机的关键技术指标，而对准精度是影响套刻精度的关键因素。掩模硅...2018-07-27 09:05:43
- 芯片光刻的流程详解（上）lat进行激光自动对准b、通过对准标志，位于切割槽上。另外层间对准，即套刻精度,保证图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。（文章来源:半导体行业观察...2018-07-12 08:36:24
- Nikon光刻机对准机制和标记系统研究心坐标，最终完成所有曝光前的对准工作。经过以上各步的对准操作，可得到的套刻精度是(某次实测值),X方向3a值为0.078Km,Y方向0.082um,...2018-01-31 09:33:17
