- 新型多触发极紫外光刻胶材料制使得图形边缘处的化学梯度增加，同时减小酸的扩散。图1 （a）应用于极紫外光刻的传统化学放大胶的机理；（b）高剂量区域的多触发机制；（c）低剂量区域...2017-08-17 11:54:14
- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 光刻机因...2017-07-28 16:03:16
- 紫外光刻机的工作条件
紫外线光刻机是 印制板制造工艺中的重要设备。传统光刻机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过...2015-01-30 16:02:14
- 掩膜板的制造和管理Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。紫外光刻机、步进式光刻机等光刻设备上都需要使用掩膜版。掩膜板的掩蔽层一般为铬（...2024-08-01 10:02:30
- 光刻胶的图形反转图形反转胶是比较常见的一种紫外光刻胶，它既可以当正胶使用又可以作为负胶使用。相比而言，负胶工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负胶工艺。应用领域在反转工艺下，通过适当的工艺参数...2024-07-09 09:32:09
- 光刻胶的保存和老化失效胶由于对紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包装），冷藏保存，并且紫外光刻胶只能在黄光（λ> 500 nm）下进行处理。通常一款光刻胶的失效日期...2024-07-08 10:08:57
- 光刻胶烘烤过程及对显影的影响正电阻部分分解或引起负电阻树脂的热交联。除技术文件中有特殊要求外，通常紫外光刻胶薄胶的烘烤温度为100℃并烘烤1分钟，可针对部分光刻胶进一步优化参数...2024-06-21 09:52:46
- 国内外光刻胶发展及应用探讨的先驱，随后经过数百年的发展，光刻胶的精度也越来越高。有G线和I线传统紫外光刻胶、深紫外光刻胶（248nm和193nm）和极紫外光刻胶（EUV，13...2024-05-10 09:47:04
- 微流控芯片制备加工方法为常见的微流控芯片制备加工方法有：① 丝网印刷 ② 喷墨打印 ③ 紫外光刻（Ultra-Violet，UV）技术 ④ 电子束直写（Electr...2024-03-05 10:20:27
- 基于流动聚焦微流控芯片的液晶微滴制备及传感响应分析了微滴尺寸对检测性能的影响。实验仪器与试剂URE-2000 / 25 紫外光刻机；微注射泵；数显鼓风干燥箱；等离子清洗仪；真空干燥箱；水浴锅；电子天...2023-12-29 11:00:24
