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  • 微流控SU8掩膜版的制作方法微流控SU8掩膜版的制作是一个复杂的工艺过程,涉及到多个步骤。以下是详细的制作流程:1. 掩膜版设计原理图设计:根据微流控芯片的设计要求,进行原理图设计,分...2024-11-20 10:06:40
  • SU8 光刻胶使用方法及注意事项使用方法基底准备在使用SU-8光刻胶之前,基板应保持清洁和干燥.清洁基板的方法包括使用硫酸和过氧化氢的混合液(piranha etch)进行湿法清洗,...2024-09-27 09:37:13
  • 硅片模具                                   硅片注塑模具                                  ...2024-11-21 20:45:36
  • 光刻加工宽5μm,高度5μm到400μm可控,误差在5-10%;光刻胶种类:进口SU8系列,国产SU8系列,进口AZ50XT,AZ9260;光刻胶模具优点:图...2024-11-21 20:45:36
  • 纯硅模具纯硅模具介绍在微流控芯片的加工过程中,除了使用SU8实惠的模具,还需要高精度的纯硅模具。一般在以下情况我们会选择加工纯硅模具:1、需要比SU-8模具更高的深宽比;2、模具的加工精度误差在1μm以内...2024-11-21 20:45:36
  • Microchem SU-8光刻胶 2000系列8 胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。在微...2024-03-28 10:07:48
  • 用于丝状真菌抗真菌分析的液滴微流控平台(下)8软件下设计(图5a),并由CAD/Art打印在光掩模上。在硅晶圆上制备SU8-2050负性光刻胶模具,通过紫外线照射和随后的显影(SU-8显影液)。...2024-05-16 11:26:02
  • AZ 5214E 光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。AZ光刻胶特点:适用于高分辨率工艺(lift-off工艺)适用于正/负图形很宽的膜厚范围AZ光刻胶工艺...2024-03-28 10:29:49
  • 光刻胶8 胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。在微...2024-03-28 10:18:53
  • 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-1508 胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。在微...2024-03-28 10:12:32
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