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- 光刻胶的主要成分和技术参数发生反射而添加染色剂等。 光刻胶的主要技术参数 （1）分辨率。分辨率是指区别半导体晶片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（Critical Di...2022-09-19 08:34:41
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- 光刻胶的主要技术参数
a、分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 ...2022-06-30 16:46:37
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- 灌流细胞培养及稳态操作数，每日调节连续废弃，可获得更加稳定的反应器行为，这种策略与半连续方法的区别在于连续的细胞去除，但细胞生产在某一时间点，还是会发生偏差。所以，最应选...2022-06-20 11:19:30
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