- 微流控技术三十年发展史（一）之前，用紫外光通过光掩模照射抗蚀剂。对于正色调区域，未暴露于辐射的区域在显影过程中被移除，而对于负色调区域则相反。随着硅谷革命的进行，另一项将对未来...2023-01-17 10:02:20
- 软光刻：SU-8烘烤教程（适用于烘胶台）C的PEB后对SU-8进行快速冷却(不应使用冷却源)。 SU-8硬烤:在显影之后，SU-8母版可能会被加热第三次(见图1)，以进一步交联SU-8模具...2022-12-06 09:05:42
- 光刻机是光刻工艺的核心设备光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。 光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导...2022-11-22 08:50:23
- 光刻胶的特性及工艺流程因素有：光源、曝光方式 和 光刻胶本身（包括灵敏度、对比度、颗粒的大小、显影时的溶胀、电子散射等）。通常正胶的分辨率要高于负胶。(3)对比度指光刻胶...2022-09-23 08:42:39
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺上，用紫外光照射涂有光刻胶的基片，光刻胶发生光化学反应; ⑤用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二...2022-09-22 08:49:07
- 光刻胶SU-8涂胶工艺解析涂胶和显影是光刻前后的重要步骤，设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。光刻涂胶工艺无论在晶圆制造前道工艺还是封装测试后道工艺，都需要涂胶...2022-09-16 08:26:41
- 基于微流控技术的磁性微液滴制备方法光阻；再用无掩模激光直写机在光阻表面曝写出微流道图案，然后用AZ400K显影液显影，再以Cr的刻蚀液刻蚀出微流道图案；最后，利用丙酮去除表面光阻得到...2022-08-24 16:28:53
- 微流控芯片模板是如何加工的持芯片旋转使受热均匀。烘烤后轻取下芯片使其自然冷却至室温。 （11）硅片显影：使用与阴性光刻胶 SU-8 2025 配套的显影剂，将硅片在显影剂中...2022-07-22 14:28:36
- 影响匀胶机旋涂仪性能和厚度参数匀胶机旋涂仪对于从事微流控领域的研究者来说并不陌生，它可以用来制备膜厚度<10nm薄膜，在1-100um厚度的光刻胶沉积光刻工艺中也常常用到。在微流控...2022-04-22 15:19:59
- 磁性纳米粒子在生物医学方面的应用粒子在体外和体内细胞和分子成像中成为一类新的探针。在核磁共振中使用超顺磁显影剂具有产生比顺磁的显影剂更强的质子弛豫的优点。因而，需要注射到体内的显影...2022-04-22 15:06:31
