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  • 掩膜版、模具与微流控芯片及其制作方法与用途掩膜版与光罩的区别与应用掩膜版和光罩是半导体制造过程中的两个重要概念,它们虽然都扮演着不可或缺的角色,但存在一些区别。掩膜版和光罩的概念及作用掩膜版:...2025-02-18 09:33:39
  • 正性光刻对掩膜版有哪些要求正性光刻对掩膜版的要求主要包括以下几个方面:基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、稳定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因为它具有较低的热膨胀系...2025-02-17 09:46:14
  • 正性光刻对掩膜版的要求在正性光刻过程中,掩膜版(Photomask)作为图形转移的关键工具,其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求:图案准确性在正性光刻中,...2024-12-20 09:48:27
  • 微流控SU8掩膜版的制作方法微流控SU8掩膜版的制作是一个复杂的工艺过程,涉及到多个步骤。以下是详细的制作流程:1. 掩膜版设计原理图设计:根据微流控芯片的设计要求,进行原理图设计,分析元件...2024-11-20 10:06:40
  • 光刻掩膜版制作流程光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程,涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程:1. 设计与准备在开始制作光刻掩膜版之前,首先需要根据电...2024-09-14 08:44:25
  • 菲林掩膜版与铬掩模版的区别菲林掩膜版和铬掩模版是两种不同的掩膜版类型,它们在微电子制造过程中扮演着重要的角色。以下是它们之间的主要区别:定义与组成菲林掩膜版:菲林掩膜版是一种中低精...2024-09-13 09:06:50
  • 掩膜版的技术迭代掩膜版产品诞生至今约70多年,是电子制造行业中使用的生产制具。由于掩膜版技术演变较慢,下游运用广泛且不同行业对掩膜版的性能、成本等要求不同,不同代别的...2024-09-10 10:15:48
  • 光刻工艺介绍及对掩膜版的质量要求性,这些特性共同保证了光刻过程的成功实施和芯片的高质量生产。‌光刻工艺对掩膜版的质量要求‌主要包括以下几点:图形尺寸准确‌,符合设计要求,且不发生畸变...2024-09-09 10:06:02
  • 掩膜版与光刻胶的功能和作用掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。‌掩膜版‌,也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...2024-09-06 09:57:07
  • 铬版掩膜版介绍及制作方法铬版掩膜版在IC生产中会大量使用,现社会因为LCD生产的档次提高了,也加大了生产量,铬板也逐渐由IC行业给推荐至LCD行业。铬板的优点很多,比如:线条精细...2024-09-05 09:20:01
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