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- 光刻掩膜版制作流程，从而形成所需的图案。4. 曝光将掩模图案数据文件导入曝光设备，如电子束曝光机。在曝光过程中，光刻胶中的光敏分子会因为光或电子束的照射而发生变化。5....2024-09-14 08:44:25
- 基于微流控技术实现严格厌氧条件下的细菌单细胞培养与实时观测（上）序。 e. 将硅片置于平整的热板上 95 ℃ 烘 2 min。 f. 在曝光机的吸盘周围套入橡胶圈，将第一层铬板掩膜清洁干净后放在台架上(镀铬面向下)...2024-04-22 10:01:06
- AZ 5214E 光刻胶围AZ光刻胶工艺条件：前烘：100℃ 60秒 (DHP)曝光：1线步进式曝光机/接触式曝光机反转烘烤：110~125℃ 90秒（DHP）：去离子水30...2024-03-28 10:29:49
- AZ P4620 光刻胶择AZ光刻胶工艺条件：前烘：100℃ 90秒 (DHP)曝光：G线步进式曝光机/接触式曝光机显影：AZ300MIF显影液 (2.38%) 23℃ 60...2024-03-28 10:29:14
- 光刻工艺介绍在可接受范围内是可以接受的。光刻过程基本可以分为两个阶段。第一阶段为通过曝光机将所需图形转移到硅片或者掩模版的表层光刻胶上；第二阶段为显影阶段，通过显...2023-12-21 10:56:32
- 光刻机是光刻工艺的核心设备 光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 光刻机一般根据操作...2022-11-22 08:50:23
- 微流控芯片模板是如何加工的束后，电热板调至 65 ℃备用。 （9）硅片曝光：将冷却后的芯片置于紫外曝光机的吸盘上，组装固定。紫外曝光的具体时间要依据芯片的具体要求进行调整，该实...2022-07-22 14:28:36
- PDMS-玻璃键合芯片完整工艺 2 所示。本文的阳膜是在超净间内制作完成，其中所用的主要设备是匀胶机，曝光机 ，以及可编程热板 PHP-8 等，设备如图 3 所示。（1）预处理：首...2022-03-31 14:37:35
- 基于时间分辨免疫分析的冰毒检测微流控芯片试剂G3P-8旋转涂覆机；KW-4AH烤胶机；SERIES-60平行紫外曝光机；ARV-310液体混合真空搅拌机；FG-5001空气等离子体处理机；打...2018-11-07 09:49:11
