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- 汶颢股份微流控芯片及相关业务简介夹具、微阀、微泵、3D打印模具、微控制器、微电极、导管接头、芯片基材、 光刻胶、PDMS、以及其他耗材。 3、微流控芯片相关设备微流控芯片加工、微流控...2017-10-09 16:54:31
- 微纳加工 - 纯硅模具加工工艺 & 硅片模具以单晶硅为材质，利用高能束轰击衬底得到需要的高深宽比结构，该方法可以弥补光刻胶在高深宽方面的不足之处。 1.微纳加工——纯硅模具工艺流程（a）硅片的清...2017-10-09 16:49:26
- MEMS工艺加工服务工服务和微纳工艺加工咨询。可提供定制的工艺包括：1.MEMS光刻工艺：对光刻胶掩膜进行图形化，最小线宽0.5μm。可用于：①微流控芯片的通道图形制备；...2017-10-09 16:43:27
- 微纳加工- 玻璃芯片键合。图为：刻蚀片图为：切割片微流控玻璃芯片加工使用仪器有：匀胶机、紫外光刻胶、恒温烘胶台、摇床等。微流控玻璃芯片加工使用到的试剂与耗材有：铬版玻璃、...2017-10-09 16:38:00
- 集成微流控芯片成熟, 通过光刻等图案化 手段可以使玻璃基片的特定图案暴露而其余部分被 光刻胶或者金属镀层所保护, 再利用氢氟酸或其缓 冲蚀刻剂(例如氢氟酸和氟化铵混...2017-08-29 10:02:02
- 匀胶机旋涂仪小知识域，它可以用来制备厚度小于10 纳米薄膜。也常应用在约1-100 微米厚光刻胶沉积层的光刻工艺中。许多平面基底材料都可以用来涂覆如：半导体硅片，载玻片...2017-08-25 08:48:47
- 微流控芯片层流技术医学和药物分析方面的研究。Chen 等 应用层流技术在线得到不同浓度的光刻胶溶液 ,同时将光刻胶涂覆在 PDMS 浇注得到的三维微通道内作为光刻掩膜...2017-08-24 09:50:32
- 刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法刻蚀以被称之为最终的和最主要的图形转移工艺步骤。在通常的刻蚀过程中，有图形的光刻胶层〔或掩膜层)将不受到腐蚀源显著的侵蚀或刻蚀，可作为掩蔽膜，保护硅片上的...2017-08-23 16:26:42
- 微流控纸芯片(纸基微流控芯片)加工技术及应用领域。根据疏水试剂与纸的结合方式，可以分为三类：1.物理阻塞纸中的细孔（如：光刻胶、聚二甲硅氧烷-PDMS）2.疏水化试剂在纤维素纤维表面上的物理沉积（如...2017-08-23 09:48:03
